线上膜厚检测系统 Elli-RSc-AMPE
光谱式反射仪为高速膜厚量测系统，1秒钟内完成单点量测(依材料性质而异)。最高可量测3层薄膜(依材料性质而异)，厚度范围10nm – 50mm(依材料性质而异)。配备显微镜系统，光点大小可调整，适用於半导体、OLED、高分子、太阳能…等相关研究及材料厚度检测。
系统特性:
- 光源波长范围: 450nm – 900nm
- 光点大小: 50um、25um
- 量测层数: 最多3层(依材料性质而异)
- 量测厚度范围: 10nm – 50mm (依材料性质而异)
- 再现性: ± 1.5 Å on 10 times measurement / Thick film: ± 3%
(Standard sample: SiO2 100nm)
- 膜厚解析度 : 0.01 nm / Thick film : 0.01 um
- 结合4, 6 寸 设备前端模组 (EFEM)设计，包含4", 6" 晶圆传送机器手臂、Casstte，对齐时间 < 3秒。
- X, Y, Z 自动载台尺寸: 180x180x60mm
- 可加装单波长雷射激发光源
- 可升级自动对焦(z-axis motorized) 功能
应用:
² 半导体 Si, Ge, SiO2, ONO, ZnO, PR, poly-Si, GaN, GaAs
² 显示器 (incl. OLED) MgO, ITO, PR, Alq3 , CuPc, PVK, PAF, PEDT-PSS
² 介电材料 SiO2, TiO3, Ta2O5, ITO, AIN, ZrO2, Si3N4, Ga2O3, Wet Oxides
² 聚合物 Dye, NPB, MNA, PVA, PET, TAC, PR
² 化学品 Organic Film(OLED) & LB Thin Film
² 太阳能电池 SiN, a-Si, poly-Si, SiO2
