線上膜厚檢測系統 Elli-RSc-AMPE
光譜式反射儀為高速膜厚量測系統，1秒鐘內完成單點量測(依材料性質而異)。最高可量測3層薄膜(依材料性質而異)，厚度範圍10nm – 50mm(依材料性質而異)。配備顯微鏡系統，光點大小可調整，適用於半導體、OLED、高分子、太陽能…等相關研究及材料厚度檢測。
系統特性:
- 光源波長範圍: 450nm – 900nm
- 光點大小: 50um、25um
- 量測層數: 最多3層(依材料性質而異)
- 量測厚度範圍: 10nm – 50mm (依材料性質而異)
- 再現性: ± 1.5 Å on 10 times measurement / Thick film: ± 3%
(Standard sample: SiO2 100nm)
- 膜厚解析度 : 0.01 nm / Thick film : 0.01 um
- 結合4, 6 吋 設備前端模組 (EFEM)設計，包含4", 6" 晶圓傳送機器手臂、Casstte，對齊時間 < 3秒。
- X, Y, Z 自動載台尺寸: 180x180x60mm
- 可加裝單波長雷射激發光源
- 可升級自動對焦(z-axis motorized) 功能
應用:
² 半導體 Si, Ge, SiO2, ONO, ZnO, PR, poly-Si, GaN, GaAs
² 顯示器 (incl. OLED) MgO, ITO, PR, Alq3 , CuPc, PVK, PAF, PEDT-PSS
² 介電材料 SiO2, TiO3, Ta2O5, ITO, AIN, ZrO2, Si3N4, Ga2O3, Wet Oxides
² 聚合物 Dye, NPB, MNA, PVA, PET, TAC, PR
² 化學品 Organic Film(OLED) & LB Thin Film
² 太陽能電池 SiN, a-Si, poly-Si, SiO2
